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Multi-objective optimization model for scheduling in the photolithography area of the semiconductor industry
1 : Département Sciences de la Fabrication et Logistique
Mines Saint-Etienne, Univ Clermont Auvergne, CNRS, UMR 6158 LIMOS, Centre CMP, STMicroelectronics
2 : Département Sciences de la Fabrication et Logistique
(SFL-ENSMSE)
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Site web
Ecole Nationale Supérieure des Mines de Saint-Etienne, CMP-GC
880, route de Mimet 13541 GARDANNE - FRANCE -
France
3 : Ecole Nationale Supérieure des Mines de Saint-Etienne, Centre Microélectronique de Provence
(EMSE-CMP)
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Site web
Ministère du Redressement productif
CMP - Site Georges Charpak 880, route de Mimet F-13541 Gardanne - France -
France
| Type : | : | oral |
| Thématiques | : | Track « Ordonnancement Intégré pour l’Usine du Futur » (GT BERMUDES/ORIGIN) |
| Mots-Clés | : | Operations Research ; Scheduling ; Multi ; objective Optimization ; Semiconductor Manufacturing |
| PDF version | : |  PDF version |
