Multi-objective optimization model for scheduling in the photolithography area of the semiconductor industry
Jeremy B.  1, @  , Stéphane Dauzère-Pérès  2  , Claude Yugma  3  
1 : Département Sciences de la Fabrication et Logistique
Mines Saint-Etienne, Univ Clermont Auvergne, CNRS, UMR 6158 LIMOS, Centre CMP, STMicroelectronics
2 : Département Sciences de la Fabrication et Logistique  (SFL-ENSMSE)  -  Site web
Ecole Nationale Supérieure des Mines de Saint-Etienne, CMP-GC
880, route de Mimet 13541 GARDANNE - FRANCE -  France
3 : Ecole Nationale Supérieure des Mines de Saint-Etienne, Centre Microélectronique de Provence  (EMSE-CMP)  -  Site web
Ministère du Redressement productif
CMP - Site Georges Charpak 880, route de Mimet F-13541 Gardanne - France -  France
Type : : oral
Thématiques : Track « Ordonnancement Intégré pour l’Usine du Futur » (GT BERMUDES/ORIGIN)
Mots-Clés : Operations Research ; Scheduling ; Multi ; objective Optimization ; Semiconductor Manufacturing
PDF version :  PDF version
Personnes connectées : 1 Vie privée
Chargement...